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VAD沉积设备

光纤预制棒VAD(Vapor Axial Deposition,气相轴向沉积)是光纤制造中的一种关键技术。光纤预制棒的质量直接影响最终光纤的性能,VAD沉积被广泛应用于各类光纤的制造,尤其是高性能光纤如特种光纤和通信光纤等。通过VAD技术沉积的光纤预制棒,通常具备优异的传输性能和较低的损耗,对现代通信领域的高速发展起到重要推动作用。

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光纤预制棒VAD(Vapor Axial Deposition,气相轴向沉积)是光纤制造中的一种关键技术。光纤预制棒的质量直接影响最终光纤的性能,VAD沉积被广泛应用于各类光纤的制造,尤其是高性能光纤如特种光纤和通信光纤等。通过VAD技术沉积的光纤预制棒,通常具备优异的传输性能和较低的损耗,对现代通信领域的高速发展起到重要推动作用。

VAD主要特点:

均匀性:VAD工艺能实现优质的沉积,形成均匀的光纤预制棒,减少缺陷。

可控性:能够精确控制材料的成分和沉积速度,从而可以调节所得光纤的光学性质。

高纯度:由于使用的气体化合物能够在高温环境下分解,VAD技术通常能获得高纯度的硅或锗材料。

主要技术指标

1

单次沉积数量

1 根

2

喷灯数量

2 个

3

沉积松散体最大直径

Φ200mm

4

沉积松散体最大长度

1300mm

5

预制棒直径

Φ90mm

6

沉积最大重量

11kg

7

沉积重量误差

±0.1kg

8

沉积速率

10g/min

9

附着率

60%

10

1mm 以内气泡数量

≤5

11

使用原料

SiCl4\SiGe4\H2\O2\Ar2

设备组件

1

沉积舱

1 套

2

蒸发柜

1 套

3

气柜

1 套

4

废气处理装置

1 套

5

电控系统

1 套